在半導體制造工藝中，濕法刻蝕作為關鍵環節之一，其工藝液成分的精確控制直接影響器件加工的精度與良率。尤其是硝酸/氫氟酸混合蝕刻液體系，因酸性強、成分復雜、終點判斷困難，其濃度的準確測定一直是行業關注的焦點。

傳統手工滴定方式不僅操作繁瑣、重復性差，還易受人為因素干擾，難以滿足現代半導體制造對高精度質量控制的要求。為解決這一痛點，CT-Plus全自動電位滴定儀應運而生，以其出色的穩定性、高精度判定能力和智能化操作體驗，為混酸體系分析提供了可靠的技術手段。

技術優勢顯著，結果精準可靠

CT-Plus電位滴定儀采用高精度液路系統與智能判定算法，具備以下核心特點：

-高精度計量系統：配備20mL高精度計量管，最小加液體積可達10μL，確保滴定過程細膩可控；

-智能終點識別：依托微分終點判定模式（微分值可設），有效避免主觀誤判，準確捕捉滴定終點；

-高效穩定的操作流程：方法預設、自動攪拌、實時電位監控一體化完成，單樣測試僅需約2分鐘；

-良好的兼容性與適應性：可搭配pH102復合電極或銻電極，適用于強酸、混酸等復雜體系。

典型應用案例：硝酸/氫氟酸混合蝕刻液濃度分析

通過實際測試數據可見，CT-Plus在硝酸/氫氟酸雙組分同步測定中表現出色：

-樣品質量：約0.55–0.56g

-滴定劑：0.5111mol/L*標準溶液

-消耗體積：硝酸終點約3.5–3.6mL，氫氟酸終點約6.2–6.5mL

-測定結果：硝酸濃度約20.72%，氫氟酸濃度約5.17%

-重復性良好，雙平行試驗結果偏差小，滿足產線質量控制要求。

為什么選擇CT-Plus？

1.方法合規、操作簡便：符合行業標準測試流程，無需復雜前處理，降低操作門檻；

2.數據可追溯、報告直觀：內置數據記錄和計算功能，可直接輸出含量百分比與平均值；

3.廣泛適用于復雜體系：不僅可用于硝酸/氫氟酸，還可擴展至其它混酸、堿液及氧化還原體系；

4.幫助企業提質增效：減少人工誤差，提高檢測一致性，是濕法刻蝕工藝控制的理想選擇。

無論是研發實驗室還是量產質檢環節，CT-Plus自動電位滴定儀均可提供快速、準確、穩定的酸濃度分析結果，協助企業實現工藝液管理的精細化、自動化與標準化。

CT-Plus——以精準數據，助您掌控每一個刻蝕細節。

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